中國電子束曝光系統產量 電子束曝光系統發展前景分析

• 2022年5月12日 ZhouXun來源：互聯網 514 27
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近年來，中國電子束曝光系統的產量和產值都呈現出較快的增長態勢。據統計，2021年，中國電子束曝光系統的產量約為864臺，同比增長12.06%;產值約為6.82億美元，同比增長18.40%。

電子束曝光是用低功率密度的電子束照射電致抗蝕劑，經顯影后在抗蝕劑中產生圖形的一種微細加工技術。

光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達到的精度越高。根據德布羅意的物質波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術應運而生。

根據中研普華產業研究院發布的《2022年全球與中國電子束曝光系統(EBL)市場深度研究報告》顯示：

中國電子束曝光系統產量

隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設備，在這兩類設備中，電子束設備在性能和數量上均占優勢。最先進的激光制版系統，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來制作0.18μm，0.15μm生產線的掩模版，但對特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統來制作，特別是用于光學光刻中的銘版制造。

據不完全統計，截至2021年底，全球電子束曝光系統產能約為3564臺，產量約為3411臺，產能利用率約為95.71%。

近年來，中國電子束曝光系統的產量和產值都呈現出較快的增長態勢。據統計，2021年，中國電子束曝光系統的產量約為864臺，同比增長12.06%;產值約為6.82億美元，同比增長18.40%。

2021年美國電子束曝光系統的產量約為268臺，較2020年增長了5.10%;產值約為2.29億美元，較2020年增長了6.02%。

據統計，2021年歐洲電子束曝光系統的產量約為1364臺，較2020年增長了6.98%;產值約為14.14億美元，較2020年增長了12.67%。

中國電子束曝光系統發展前景分析

隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設備，在這兩類設備中，電子束設備在性能和數量上均占優勢。最先進的激光制版系統，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來制作0.18μm，0.15μm生產線的掩模版，但對特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統來制作，特別是用于光學光刻中的銘版制造。

這種曝光方式分辨率高、掩膜版制作容易、工藝容限大，而且生產效率高，但由于電子束在光刻膠膜內的散射，使得圖案的曝光劑量會受到臨近圖案曝光劑量的影響(即臨近效應)，造成的結果是，顯影后，線寬有所變化或圖形畸變。雖然如此，限角度投影式電子束光刻仍是最具前景的非光學光刻。

中研普華利用多種獨創的信息處理技術，對電子束曝光系統(EBL)行業市場海量的數據進行采集、整理、加工、分析、傳遞，為客戶提供一攬子信息解決方案和咨詢服務，最大限度地降低客戶投資風險與經營成本，把握投資機遇，提高企業競爭力。

了解更多行業詳情，可以點擊查閱中研普華產業研究院的《2022年全球與中國電子束曝光系統(EBL)市場深度研究報告》。

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  2022年全球與中國電子束曝光系統（EBL）市場深度研究報告

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