光刻膠,又稱為光致抗蝕劑,是利用光化學反應經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移介質(zhì),通過曝光其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。光刻膠是PCB、LCD和半導體等各應用行業(yè)的上游材料,一般相同用途的光刻膠,由于投資大、
光刻膠行業(yè)市場多大?滬深兩市昨日繼續(xù)調(diào)整。盤面上,行業(yè)板塊多數(shù)下跌,以芯片為代表的科技股逆勢上漲,消費股領跌。隔夜引發(fā)刷屏的“室溫超導”成為市場焦點,超導概念股開盤大漲但高開低走,不過仍有永鼎股份(4.320, -0.29, -6.29%)等多股漲停。
截至收盤,上證綜指跌0.22%,報3276.09點;科創(chuàng)50指數(shù)漲0.34%,報998.3點;深證成指跌0.16%,報11579.99點;創(chuàng)業(yè)板指跌0.21%,報2372.68點。滬深兩市成交總額為7567億元,較前一交易日增加382億元。北向資金凈流出41.76億元,連續(xù)3個交易日凈流出。
光刻膠,又稱為光致抗蝕劑,是利用光化學反應經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉移到待加工基片上的圖形轉移介質(zhì),通過曝光其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。光刻膠是PCB、LCD和半導體等各應用行業(yè)的上游材料,一般相同用途的光刻膠,由于投資大、市場比下游應用行業(yè)小,行業(yè)集中度非常高,只能有幾家企業(yè)生存。光刻膠專用化學品具有相似特征,即品種多、用量小、品質(zhì)要求高,投資相對普通化學品大,行業(yè)集中度高。
據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)院研究報告《2022-2027年光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告》分析
光刻膠主要是由光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體(活性稀釋劑)、溶劑和其他助劑組成的對光敏感的混合液體。樹脂和光引發(fā)劑是光刻膠最核心的部分,樹脂對整個光刻膠起到支撐作用,使光刻膠具有耐刻蝕性能;光引發(fā)劑是光刻膠材料中的光敏成分,能發(fā)生光化學反應。
生產(chǎn)光刻膠的原料主要是光刻膠樹脂、光敏材料、溶劑及添加劑等。光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈環(huán)節(jié)較多,覆蓋面也較廣,原材料質(zhì)量及配方比例是決定光刻膠產(chǎn)品品質(zhì)的重要因素。
除技術壁壘外,光刻膠行業(yè)還存在客戶壁壘、原料壁壘。光刻膠行業(yè)進入門檻高,市場高度集中,CR4約70%。
3月8日晚,“室溫超導”話題刷屏,股友微信群對其展開了熱烈討論。
昨日,超導概念股大幅高開,隨后走低。截至收盤,百利電氣(4.560, -0.18, -3.80%)、永鼎股份漲停,西部超導(87.470, -4.53, -4.92%)幾近收平。
在近日舉行的美國物理學春季年會上,紐約羅切斯特大學物理學家朗加·迪亞斯舉行講座,稱自己的團隊創(chuàng)造出可在室溫下工作的超導材料。他介紹,團隊發(fā)現(xiàn)了一種由氫、氮、镥組成的化合物,在21℃的溫度下,材料電阻能降為0,不過這仍需要1GPa(約1萬個標準大氣壓)的壓強才能實現(xiàn)材料的超導性能,但已經(jīng)遠低于“室溫超導”先前所需的數(shù)百萬個大氣壓。
光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈可以分為上游原材料,中游制造和下游應用三個環(huán)節(jié)。上游包括感光樹脂、單體、光引發(fā)劑及添加助劑等原材料,中游包括 PCB 光刻膠、面板光刻膠和半導體光刻膠的制備,下游是各種光刻膠的應用。
我國光刻膠企業(yè)使用的樹脂90%以上依賴進口,供應商以日本和美國廠商為主。全球光刻膠樹脂主要由住友電木、日本曹達及美國陶氏等化工大廠供應,國內(nèi)運用于光刻膠領域樹脂幾乎全部需要進口。
美日韓企業(yè)占據(jù)了全球88%的光刻膠市場份額,中國大陸光刻膠企業(yè)主要包括南大光電、晶瑞電材、彤程新材、上海新陽等。由于我國半導體光刻膠產(chǎn)業(yè)起步較晚,目前的市占率較低。
光刻膠是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一,在大規(guī)模集成電路的制造過程中,光刻和刻蝕技術是精細線路圖形加工中最重要的工藝,占芯片制造時間的40%~50%,光刻膠是光刻工藝得以實現(xiàn)選擇性刻蝕的關鍵材料。光刻膠的應用范圍主要有PCB板,LCD,LED和半導體,前面三種技術要求相對較低,但我國企業(yè)仍然沒有實現(xiàn)完全自給。而半導體光刻膠技術壁壘較高、市場高度集中,幾乎被日美企業(yè)壟斷,生產(chǎn)商主要有日本JSR、信越化學工業(yè)、日本TOK、陶氏化學等。
我國在2000年左右才開始著手光刻膠的研發(fā),目前整體還處于起步階段,工藝技術水平與國外企業(yè)有很大的差距,尖端材料及設備仍依賴進口。例如,京東方目前已建立17個面板顯示生產(chǎn)基地,其中有16個已經(jīng)投產(chǎn),但京東方用于高端面板的光刻膠仍然由國外企業(yè)提供。目前光刻膠市場上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家,包括陶氏化學、杜邦、富士膠片、信越化學、住友化學、LG化學等等,中國公司在光刻膠領域也缺少核心技術。
眾所周知光刻膠是晶圓制造重要材料,行業(yè)壁壘高,國產(chǎn)化替代的難度較高,而我國光刻膠產(chǎn)品以中低端為主,日美企業(yè)廠商占據(jù)國內(nèi)高端光刻膠市場大部分份額,一旦斷供,國內(nèi)多家晶圓廠或將面臨光刻膠缺貨風險,亟需國產(chǎn)替代。
去年10月底以來,A股市場在預期驅動下提前交易經(jīng)濟復蘇,春節(jié)假期后,市場等待經(jīng)濟實質(zhì)性復蘇信號,交投情緒相對低迷。雖然1至2月處于經(jīng)濟數(shù)據(jù)真空期,但中金公司構建的經(jīng)濟高頻指數(shù)顯示,中國經(jīng)濟實質(zhì)性復蘇進度可能好于市場預期。2月開始,供給側也開始出現(xiàn)復蘇跡象,基建開工相關指標轉為上行,支撐經(jīng)濟增長指數(shù)上行。
業(yè)內(nèi)人士認為,從高頻經(jīng)濟增長指數(shù)與股市的關系來看,中國經(jīng)濟增長與股市收益率存在較強的同步正相關性,近期股市走勢尚未充分反映經(jīng)濟修復水平。
目前半導體材料環(huán)節(jié)的整體國產(chǎn)化率在20-30%左右,光刻膠、掩膜版等國產(chǎn)化率最低。但國內(nèi)部分企業(yè)積極投入研發(fā),且已有所突破,國內(nèi)企業(yè)迎來高端光刻膠國產(chǎn)替代良機。
從競爭情況看,全球光刻膠市場主要被日美企業(yè)壟斷,其中日本企業(yè)基于政策扶持力度加大實現(xiàn)上下游協(xié)同發(fā)展,從而牢牢占據(jù)龍頭地位。
韓國半導體光刻膠的供需進入緊急狀態(tài),庫存量降到了“馬奇諾防線”——3個月水平以下。這是因為以成熟工藝為主的需求劇增,但是供給卻沒有跟上。同時這也是未能擺脫依賴日本供應商的結果。
在所有的晶圓制造材料中,半導體光刻膠憑借其復雜且精準的成分組成要求而具有最高的價值含量。機構指出,目前國內(nèi)半導體光刻膠主要以低端產(chǎn)品為主,技術水平與國外差距甚遠。但在多項國家政策支持和大基金注資的背景下,今后本土替代將成為長期趨勢。目前已有少數(shù)企業(yè)已開始嶄露頭角,實現(xiàn)從0到1的突破。
期收到某國內(nèi)主流存儲芯片廠商的半導體光刻膠采購訂單,此前該產(chǎn)品型號全部依賴于海外進口。
容大感光具備1050噸顯示用光刻膠、半導體光刻膠及配套化學品的生產(chǎn)能力,將新增1.53萬噸顯示用光刻膠、半導體光刻膠及配套化學品產(chǎn)能。
隨著汽車、人工智能、國防等電子技術的進步,預計2020-2026年光刻膠CARG將達5.5%,到2026年將超過120億美元。
在一個供大于求的需求經(jīng)濟時代,企業(yè)成功的關鍵就在于,是否能夠在需求尚未形成之時就牢牢地鎖定并捕捉到它。那些成功的公司往往都會傾盡畢生的精力及資源搜尋產(chǎn)業(yè)的當前需求、潛在需求以及新的需求!
隨著光刻膠行業(yè)競爭的不斷加劇,國內(nèi)優(yōu)秀的行業(yè)企業(yè)愈來愈重視對市場的研究,特別是對企業(yè)發(fā)展環(huán)境和客戶需求趨勢變化的深入研究。正因為如此,一大批國內(nèi)優(yōu)秀的行業(yè)企業(yè)迅速崛起,逐漸成為行業(yè)中的翹楚!
欲了解更多關于光刻膠行業(yè)的市場數(shù)據(jù)及未來行業(yè)投資前景,可以點擊查看中研普華產(chǎn)業(yè)院研究報告《2022-2027年光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告》。
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2022-2027年光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告
光刻膠行業(yè)研究報告主要分析了光刻膠行業(yè)的市場規(guī)模、光刻膠市場供需求狀況、光刻膠市場競爭狀況和光刻膠主要企業(yè)經(jīng)營情況、光刻膠市場主要企業(yè)的市場占有率,同時對光刻膠行業(yè)的未來發(fā)展做出科...
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