濺射靶材在我國還屬于較新的行業，但濺射鍍膜和終端應用已經發展得較為成熟，高純度金屬以及濺射靶材等關鍵原材料主要依靠進口供給。
靶材是在濺射過程中被高速金屬等離子體流轟擊的目標材料，是制備功能薄膜的原材料，又稱“濺射靶材”，純度為99.95%以上，更換不同靶材可得到不同的膜系，實現導電或阻擋等功能。靶材種類繁多，按材質可劃分為金屬靶材、陶瓷靶材和合金靶材三類。
濺射靶材在我國還屬于較新的行業，但濺射鍍膜和終端應用已經發展得較為成熟，高純度金屬以及濺射靶材等關鍵原材料主要依靠進口供給。因此，亟需將產業鏈向上游擴展，加大研發投入，大力發展高純金屬提純和濺射靶材制造業務，形成相對完整的產業鏈條。
據中研產業研究院報告《2021-2025年中國靶材行業發展趨勢及投資預測報告》分析
濺射靶材行業具有極高的客戶認證壁壘與技術壁壘，海外公司起步早，美日公司長期壟斷全球市場，日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯合計占據全球80%的份額。在海外靶材關稅壁壘和半導體材料自主可控的背景下，靶材國產替代大幕拉開。國內公司有研新材、江豐電子依靠自身優勢抓住機遇，逐漸成長為國內靶材的龍頭。
目前全球靶材制造業，尤其是高純度靶材市場，主要份額集中在海外巨頭手中。美日龍頭企業在掌握核心生產技術后，實施嚴格保密措施來限制技術外泄，并通過擴張整合把握全球濺射靶材市場的主動權，先發優勢明顯。從靶材種類角度看，日礦金屬是銅靶的主要供應商;攀時與世泰科為鉬靶的主要供應商，住友化學，愛發科為鋁靶的主要供應商;三井、日礦金屬和優美科則是ITO靶材主要供應商。
目前，全球濺射靶材市場主要有四家企業，分別是JX日礦金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯，市場份額占比分別為30%、20%、20%和10%，合計壟斷了全球80%的市場份額。
近年來，隨著國內少數企業加大技術研發投入，經過數年的科技攻關和產業化應用，已逐漸突破關鍵技術門檻，擁有了部分產品的規模化生產能力，這些企業正在經歷快速發展時期，上升勢頭較快。
近年來，中國靶材的市場規模迅速增長。2018年底，我國進口靶材的免稅期結束，疊加近年來半導體國產替代加速，平面顯示領域OLED市場需求快速增長。預計至2026年，我國靶材行業市場規模達653億元。
想要了解更多靶材行業的發展前景，請查閱《2021-2025年中國靶材行業發展趨勢及投資預測報告》。
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