荷蘭光刻機巨頭ASML周三發布財報稱，第一季度凈盈利13.3億歐元，較上年同期的3.906億歐元飆升近2.5倍，因全球芯片荒之下其設備需求大幅增長。凈營收增長近80%，從上年同期的24.4億歐元增至43.6億歐元。
荷蘭光刻機巨頭ASML周三發布財報稱，第一季度凈盈利13.3億歐元，較上年同期的3.906億歐元飆升近2.5倍，因全球芯片荒之下其設備需求大幅增長。凈營收增長近80%，從上年同期的24.4億歐元增至43.6億歐元。毛利率達到53.9%。ASML還表示，預計將提前完成去年1月宣布的60億歐元股票回購計劃，因為目前強勁的現金流將使其在未來幾個季度能夠大量回購股票。
光刻機又名掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。鍍膜光刻機是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。
主要的光刻機生產廠家包括：ASML、尼康、佳能、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS、ABM Inc.等。
高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。高端光刻機堪稱現代光學工業之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產權的投影式中端光刻機，形成光刻機產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發制作工作。
從產業結構來看，隨著我國集成電路產業的發展，IC設計、芯片制造和封裝測試三個子行業的格局正在不斷變化，我國集成電路產業鏈結構也在不斷優化。我國集成電路設計業占我國集成電路產業鏈的比重一直保持在35%以上，并由2015年的36.7%增長至2019年的40.5%，發展速度總體高于行業平均水平，已成為集成電路各細分行業中占比最高的子行業。
2019年中國集成電路產業銷售收入為7562.3億元，同比增長15.80%，其中集成電路設計業銷售收入為3063.5億元，同比增長21.6%，占總值40.5%;晶圓制造業銷售收入為2149.1億元，同比增長18.20%，占總值的28.40%;封測業銷售收入為2349.7億元，同比增長7.10%，占總值的31.1%。
隨著光刻機行業競爭的不斷加劇，大型企業間并購整合與資本運作日趨頻繁，國內外優秀的光刻機企業愈來愈重視對行業市場的分析研究，特別是對當前市場環境和客戶需求趨勢變化的深入研究，以期提前占領市場，取得先發優勢。中研普華利用多種獨創的信息處理技術，對光刻機行業市場海量的數據進行采集、整理、加工、分析、傳遞，最大限度地降低客戶投資風險與經營成本，把握投資機遇，提高企業競爭力。
更多行業發展前景分析，可點擊中研研究院出版的《2021-2025年光刻機行業市場深度分析及發展規劃咨詢綜合研究報告》。
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